一種近場(chǎng)波束聚焦的毫米波雙反射面天線

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410257253.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN104103911B 公開(kāi)（公告）日 2017-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN104103911B 申請(qǐng)公布日 2017-01-25
分類號(hào) H01Q19/19(2006.01)I;H01Q15/16(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 薛長(zhǎng)江;余川;孟凡寶;屈勁;徐剛;施美友;陳世韜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四川省科學(xué)城久利科技實(shí)業(yè)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 中久安特裝備有限公司
地址 610000 四川省成都市天府新區(qū)天府大道南段2039號(hào)和美·海棠中心（天府創(chuàng)客）16樓1609號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種近場(chǎng)波束聚焦的毫米波雙反射面天線，包括主反射面、副反射面和饋源，述饋源發(fā)射出的波束經(jīng)副反射面反射到主反射面后再射出；主反射面的曲面形狀為旋轉(zhuǎn)拋物面，主反射面的中心點(diǎn)位于副面出射中心軸線和輻射波束軸線交點(diǎn)處。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、加工成熟，提高了天線近場(chǎng)區(qū)軸線功率密度，在同樣輸入功率情況下，軸線最大功率密度得到大幅提高；達(dá)到有效功率閾值的距離范圍增大；提高了天線效率、增大了天線近場(chǎng)增益。