一種毫米波近場機(jī)械調(diào)焦雙反射面天線

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410561585.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN105591206A 公開（公告）日 2016-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN105591206A 申請(qǐng)公布日 2016-05-18
分類號(hào) H01Q15/14(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 薛長江;余川;孟凡寶;屈勁;徐剛;施美友;陳世韜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四川省科學(xué)城久利科技實(shí)業(yè)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 中國工程物理研究院應(yīng)用電子學(xué)研究所;中久安特裝備有限公司
地址 621000 四川省綿陽市919信箱1013分箱
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種毫米波近場機(jī)械調(diào)焦雙反射面天線，包括主反射面、副反射面、和饋源，所述饋源發(fā)射出的波束經(jīng)副反射面反射到主反射面后再射出；副反射面能在運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上前后、上下、左右移動(dòng)或者旋轉(zhuǎn)移動(dòng)或者旋轉(zhuǎn)；主反射面的曲面形狀為旋轉(zhuǎn)拋物面，主反射面的中心點(diǎn)位于副面出射中心軸線和輻射波束軸線交點(diǎn)處。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、加工成熟，提高了天線近場區(qū)軸線功率密度及作用距離范圍，同時(shí)可簡單快速在較大區(qū)域調(diào)節(jié)其最大功率密度位置，即在同樣輸入功率情況下，軸線最大功率密度得到大幅提高且位置可在較大區(qū)域調(diào)節(jié)；使達(dá)到有效功率閾值的范圍增大。