觸持陰極離子束刻蝕機(jī)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN96229574.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN2281555Y | 公開(公告)日 | 1998-05-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN2281555Y | 申請(qǐng)公布日 | 1998-05-13 |
分類號(hào) | G03F7/00 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 陳紹金 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海華洋工貿(mào)公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海市浦東專利事務(wù)所 | 代理人 | 上海華洋工貿(mào)公司 |
地址 | 200135上海市浦東楊高中路2709號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種由機(jī)框、真空室、離子源、中和器、二件臺(tái)、指示表頭和電源源控制柜組成的觸持陰極離子束刻蝕機(jī),其特征在于離子源的觸持陰極由陰極座(1)、陰極安裝支座(2)、鉭管(3)、發(fā)射體(4)、觸持極(5)、引出極(6)組成,增設(shè)了電子分配擋板(7)、徑向流量分配器(10),還增設(shè)了由屏柵極(19)和加速極(20)組成的束流匹配柵,中和器為等離子體橋中和器,本實(shí)用新型的離子源功耗低,壽命長(zhǎng)、工藝參數(shù)穩(wěn)定,可以在反應(yīng)離子束刻蝕狀態(tài)下順利地工作,刻蝕室溫度低,污染小,完全滿足加工多種半導(dǎo)體器件的需要。 |
