用于處理工件的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210275845.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114649176A 公開（公告）日 2022-06-21
申請公布號 CN114649176A 申請公布日 2022-06-21
分類號 H01J37/248（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 S·E·薩瓦;馬紹銘 申請（專利權(quán)）人 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京易光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 美國加利福尼亞州
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 提供了用于處理工件的方法。在一個(gè)示例中，用于處理工件的方法可以包括：允許工藝氣體進(jìn)入等離子體腔室；用射頻（RF）能量供能感應(yīng)耦合元件；調(diào)節(jié)位于感應(yīng)耦合元件和等離子體腔室之間的靜電屏蔽體的RF電壓；以及，至少部分地基于靜電屏蔽體的RF電壓，在工件上進(jìn)行離子輔助蝕刻工藝；其中，調(diào)節(jié)靜電屏蔽體的RF電壓包括：將耦合在靜電屏蔽體和接地參考之間的第一可調(diào)電抗阻抗電路調(diào)節(jié)為電感電抗?fàn)顟B(tài)；以及，調(diào)節(jié)耦合在靜電屏蔽體和感應(yīng)耦合元件之間的第二可調(diào)電抗阻抗電路。