使用臭氧氣體和氫自由基的工件加工

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210367378.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114664656A 公開（公告）日 2022-06-24
申請公布號 CN114664656A 申請公布日 2022-06-24
分類號 H01L21/3213（2006.01）I;H01L21/311（2006.01）I;H01L21/768（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張祺;楊海春;仲華;楊曉晅 申請（專利權）人 北京屹唐半導體科技股份有限公司
代理機構 北京易光知識產權代理有限公司 代理人 -
地址 100176北京市大興區(qū)北京經濟技術開發(fā)區(qū)經海二路28號8幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 提供了一種用于加工工件的方法，工件包括銅層和釕層，該方法包括：將工件放置在加工腔室中的工件支撐件上，工件已經使用化學機械拋光CMP工藝被加工以至少部分地去除銅層；在釕層上進行臭氧蝕刻工藝，以至少部分地去除釕層，其中，臭氧蝕刻工藝包括將工件暴露于含有臭氧氣體的工藝氣體；在工件上進行氫自由基處理工藝，以去除存在于銅層上的氧化物層的至少一部分，其中，氫自由基處理工藝包括通過將含氫氣體與等離子體源下游的一種或多種激發(fā)的惰性氣體分子混合產生一個或多個氫自由基；以及，從加工腔室取出工件。