具有均勻性控制的等離子體剝離工具

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201880038239.4 申請日 -
公開（公告）號 CN110731000B 公開（公告）日 2022-06-03
申請公布號 CN110731000B 申請公布日 2022-06-03
分類號 H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 馬紹銘;弗拉迪米爾·納戈爾尼;D·V·德塞;瑞安·M·帕庫爾斯基 申請（專利權(quán)）人 北京屹唐半導體科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京易光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 美國加利福尼亞州
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 提供了具有處理均勻性控制的等離子體剝離工具。在一個示例性實施方式中，等離子體處理設(shè)備包括處理室。該設(shè)備包括在處理室中的第一基座，其可進行操作以支撐工件。第一基座可以限定第一處理站。等離子體處理設(shè)備可以包括在處理室中的第二基座，其可進行操作以支撐工件。第二基座可以限定第二處理站。該設(shè)備可以包括設(shè)置在第一處理站上方的第一等離子體室。第一等離子體室可以與第一感應等離子體源相關(guān)聯(lián)。第一等離子體室可以通過第一分離格柵與處理室隔開。該設(shè)備可以包括設(shè)置在第二處理站上方的第二等離子體室。第二等離子體室可以與第二感應等離子體源相關(guān)聯(lián)。第二等離子體室可以通過第二分離格柵與處理室隔開。