一種發(fā)光二極管的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011214757.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114447013A | 公開(公告)日 | 2022-05-06 |
申請公布號 | CN114447013A | 申請公布日 | 2022-05-06 |
分類號 | H01L27/15(2006.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L21/78(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 林智遠(yuǎn) | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市TCL高新技術(shù)開發(fā)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 徐凱凱 |
地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)西麗留仙洞中山園路1001號TCL科學(xué)園區(qū)研發(fā)樓D4棟8層B1單位802-1號房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種發(fā)光二極管的制備方法,其包括步驟:提供襯底復(fù)合層,所述襯底復(fù)合層包括從下至上依次層疊設(shè)置的第一襯底層、中間層以及第二襯底層;在所述第二襯底層的上表面生長外延層并處理得到所述發(fā)光二極管。本發(fā)明可實現(xiàn)提升發(fā)光二極管的制備良率。 |
