一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法及裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811071009.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109060860A 公開（公告）日 2018-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN109060860A 申請(qǐng)公布日 2018-12-21
分類號(hào) G01N23/2258 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 洪啟集成電路（珠海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 200120 上海市浦東新區(qū)南匯新城鎮(zhèn)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法及裝置，用于診斷離子注入是否存在異常，包括以下步驟：S1，微調(diào)機(jī)臺(tái)；S2，第一決策階段，機(jī)臺(tái)進(jìn)行離子注入劑量偏差自校驗(yàn)，若離子注入劑量偏差小于1％，則轉(zhuǎn)到步驟S3，若離子注入劑量差大于等于1％，則轉(zhuǎn)到步驟S1；S3，進(jìn)行異常點(diǎn)檢測(cè)與剔除；S4，進(jìn)行曲線平滑處理并進(jìn)行模型診斷；S5，計(jì)算相關(guān)的非參數(shù)量化指標(biāo)并按照該指標(biāo)進(jìn)行二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較；S6，若所述指標(biāo)滿足閾值，則該次離子注入正常；若不滿足閾值，則該次離子注入異常，轉(zhuǎn)到步驟S1。解決現(xiàn)有技術(shù)中二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較參數(shù)過(guò)于主觀，離子注入結(jié)果分析不全面的問(wèn)題，有效的實(shí)現(xiàn)早期檢測(cè)和指導(dǎo)從業(yè)人員及時(shí)制定解決方案，減少偏差的影響。