一種新型磁控濺射圓柱靶

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200920205479.7 申請日 -
公開（公告）號 CN201778105U 公開（公告）日 2011-03-30
申請公布號 CN201778105U 申請公布日 2011-03-30
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王宇;張強 申請（專利權(quán)）人 深圳市振恒昌實業(yè)有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)同樂村丁甲嶺工業(yè)區(qū)9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種新型磁控濺射圓柱靶，包括靶頭和靶體，所述靶頭連接靶體上，靶頭包括固定在上支板上的感應(yīng)式電動機，上支板另一側(cè)由支撐柱連接法蘭盤，上支板和法蘭盤之間通過旋轉(zhuǎn)主軸連接，連軸套、外側(cè)的推力球軸承、分水器和穿過并套接于旋轉(zhuǎn)主軸外的空心軸順次連接，空心軸穿過并固定于法蘭盤的中間孔上，法蘭盤另一側(cè)固定有屏蔽罩套于空心軸外側(cè)；所述靶體包括磁軸和靶材，所述磁軸由導(dǎo)水管和導(dǎo)水管外側(cè)的導(dǎo)磁體及磁鐵組成，其特征是：所述法蘭盤是靶頭各部件的載體，法蘭盤一側(cè)有絕緣墊，另一側(cè)有絕緣密封套：本實用新型對現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進行了優(yōu)化，提高了靶材的濺射速率和靶材利用率，改善了磁控濺射圓柱靶的水冷效果，制造成本低。