硅基板上解鍵合SiC片方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111119932.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113948459A | 公開(公告)日 | 2022-01-18 |
申請公布號 | CN113948459A | 申請公布日 | 2022-01-18 |
分類號 | H01L21/78(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 嚴(yán)立巍;符德榮;李景賢 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江同芯祺科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 工業(yè)和信息化部電子專利中心 | 代理人 | 華楓 |
地址 | 312000浙江省紹興市越城區(qū)銀橋路326號1幢4樓415室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提出了一種硅基板上解鍵合SiC片方法。包括:S100:將鍵合有多片SiC片的硅基板翻轉(zhuǎn),使SiC片朝向石墨托盤并嵌入石墨托盤;S200:向硅基板噴灑蝕刻液,使多片SiC片與硅基板解鍵合;S300:移除解鍵合后的硅基板,并使多片SiC留置于石墨托盤。根據(jù)本發(fā)明提出的的硅基板上解鍵合SiC片方法,通過將SiC片對準(zhǔn)并嵌入石墨盤,利用石墨盤耐高溫的性質(zhì),便于后續(xù)對SiC片進(jìn)行高溫退火等工藝,另外,通過蝕刻液以化學(xué)蝕刻的方式進(jìn)行解鍵合,避免了對SiC片的表面損傷,有助于提高SiC器件的良品率。 |
