一種晶圓級低溫環(huán)境模擬測試裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110725286.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113376498A | 公開(公告)日 | 2021-09-10 |
申請公布號 | CN113376498A | 申請公布日 | 2021-09-10 |
分類號 | G01R31/26(2014.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 杭曉宇;鄒桂明;常兵;管林翔;王冰 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇七維測試技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都三誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 饒振浪 |
地址 | 214000江蘇省無錫市南湖大道503號3幢201 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種晶圓級低溫環(huán)境模擬測試裝置,其特征在于,包括測試箱(1),設(shè)置在測試箱(1)內(nèi)且將測試箱(1)內(nèi)部分隔成測試腔(38)和常溫腔(39)的隔板(24),設(shè)置在測試腔(38)內(nèi)的測試板(13),安裝于測試板(13)上的承載臺(21),設(shè)置在常溫腔(39)內(nèi)的托板(20)和下拉機(jī)構(gòu)等。本發(fā)明在測試箱內(nèi)設(shè)置有測試腔和常溫腔,測試時先將測試腔和常溫腔空氣排出,并在測試腔內(nèi)通入低溫干燥空氣,因此晶圓在測試時不會在其表面結(jié)霜。晶圓測試完成后通過下拉機(jī)構(gòu)將晶圓移到常溫腔內(nèi),使晶圓升至常溫后再取出測試箱,有效防止晶圓與外部空氣接觸而使其表面形成水滴。 |
