掩膜版圖形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及濾光片
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911164958.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112946991A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112946991A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-11 |
分類(lèi)號(hào) | G03F1/00;G03F1/70;G02F1/1335;G03F7/00 | 分類(lèi) | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 唐文靜;王達(dá)興;范剛洪;徐廣軍;王群;王紅光 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 上海儀電顯示材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 唐嘉 |
地址 | 201108 上海市閔行區(qū)華寧路3306弄160號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種掩膜版圖形的形成方法、掩膜版的制作方法、掩膜版以及濾光片,其中,掩膜版圖形的形成方法包括:提供初始圖形區(qū),所述初始圖形區(qū)包括多個(gè)有序排列的像素單元格圖形;采用圓弧狀邊界線將所述初始圖形區(qū)劃分為顯示區(qū)和非顯示區(qū),部分所述像素單元格圖形跨越所述圓弧狀邊界線,跨越所述圓弧狀邊界線的所述像素單元格圖形位于所述顯示區(qū)的面積不相等。本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版圖形的形成方法,形成的掩膜版圖形,使顯示區(qū)和非顯示區(qū)的邊界呈圓滑的圓弧設(shè)計(jì),圓弧形狀更加自然,提高了顯示屏幕的美觀性。 |
