一種簇狀束雙面成膜方法與裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110366678.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113136546A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113136546A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-20 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/28（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 曹路;宋鳳麒 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江蘇集創(chuàng)原子團(tuán)簇科技研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 趙艷平 |
| 地址 | 210000江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號(hào)12幢-500 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種簇狀離子束雙面成膜方法，包括以下步驟：將基板保持在成膜室的大致中心處；在相對(duì)于基板對(duì)稱(chēng)的位置處設(shè)置一對(duì)簇離子束產(chǎn)生裝置；從成對(duì)的離子束產(chǎn)生裝置輻射出離子束以在基板的兩面上形成薄膜，每個(gè)所述薄膜包括氟化物層；分別測(cè)量在所述基板的每一面上形成的膜的成膜速度，以及分別監(jiān)測(cè)形成在所述基板的每一側(cè)上的膜的厚度。本發(fā)明提供一種雙面成膜方法，該方法能夠同時(shí)在薄膜的兩面形成質(zhì)量令人滿意的薄膜，光學(xué)特性和耐久性?xún)?yōu)異的薄膜?？梢栽诜謩e用簇狀離子束同時(shí)照射襯底的兩側(cè)而不進(jìn)行電離的情況下進(jìn)行。 |
