一種用于生產(chǎn)離子簇、電離分子和電離單原子的離子源
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110366673.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113178371A | 公開(公告)日 | 2021-07-27 |
申請公布號(hào) | CN113178371A | 申請公布日 | 2021-07-27 |
分類號(hào) | H01J37/08(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 曹路;宋鳳麒 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇集創(chuàng)原子團(tuán)簇科技研究院有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 趙艷平 |
地址 | 210000江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號(hào)12幢-500 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種離子源,包括:電弧室殼體限定的電弧室;第一摻雜劑源,被配置為在第一操作模式下向電弧室供應(yīng)第一摻雜劑材料;第一電子源,被配置為在第一操作模式下電離第一摻雜劑材料;第二摻雜劑源,其被配置為在第二操作模式下向電弧室供應(yīng)第二摻雜劑材料;第二電子源,其被配置為在第二操作模式下使第二摻雜劑材料電離,其中離子源在第一操作模式下提供第一摻雜劑材料的離子,并在第二操作模式下提供第二摻雜劑材料的離子;所述第一電子源被配置為在所述第一操作模式下在相對較低的溫度下電離所述第一摻雜劑材料,并且其中,所述第二電子源被配置為在相對較高的第二操作模式溫度下電離所述第二摻雜劑材料。 |
