一種濺射鍍膜陰極系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821531010.8 申請日 -
公開（公告）號 CN209227050U 公開（公告）日 2019-08-09
申請公布號 CN209227050U 申請公布日 2019-08-09
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王策;李先林;呂勇 申請（專利權）人 華夏易能（海南）新能源科技有限公司
代理機構 北京中政聯(lián)科專利代理事務所（普通合伙） 代理人 華夏易能（海南）新能源科技有限公司
地址 570216 海南省海口市南海大道168號?？诒６悈^(qū)管理委員會二樓213室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種濺射鍍膜陰極系統(tǒng)，包括：旋轉磁體、固定磁體和屏蔽罩；所述屏蔽罩一側設置有開口，且所述旋轉磁體和所述固定磁體設置在所述屏蔽罩內部。該系統(tǒng)可以消除靶材端部拐彎處刻蝕非常嚴重，而中部區(qū)域卻相對刻蝕較淺的現(xiàn)象，進而提高靶材利用率；可以減少實際應用中由于磁場分布的不均勻造成靶材的刻蝕區(qū)域的不均勻性問題，從而提高靶材利用率；還可以提高鍍膜層均勻性，從而提高產品質量；還具有結構簡單、可靠性高、成本低等優(yōu)勢。