溝槽型功率器件的溝槽柵結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010277890.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113517341A | 公開(公告)日 | 2021-10-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113517341A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-19 |
分類號(hào) | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 常虹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南京紫竹微電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海容慧專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 于曉菁 |
地址 | 710018 陜西省西安市西安經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)草灘生態(tài)產(chǎn)業(yè)園尚稷路8928號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種溝槽型功率器件的溝槽柵結(jié)構(gòu)及其制造方法,在半導(dǎo)體基底的溝槽內(nèi)底部的設(shè)有厚氧化層,溝槽側(cè)壁形成溝槽型功率器件的柵氧化層,及在溝槽內(nèi)沉積形成一個(gè)塞狀多晶硅柵極,且在厚氧化層上方及多晶硅柵極下方設(shè)有第一限制部,及包覆第一限制部的第二限制部。透過第一限制部及第二限制部的存在,在后續(xù)工序中將保留第二限制部下方的厚氧化層,從而能降低工藝成本;能在更小深寬比的溝槽中形成良好的TBO(Thick Bottom Oxide),從而能適用于各種深寬比的溝槽的TBO形成,從而具有較大的使用范圍。 |
