一種石墨烯納米微片薄膜的制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310694498.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103708443B 公開(kāi)（公告）日 2015-05-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN103708443B 申請(qǐng)公布日 2015-05-27
分類號(hào) C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 分類 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 蕭小月;徐燕 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 青島科孚納米技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無(wú)錫互維知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王愛(ài)偉
地址 266000 山東省青島市市南區(qū)彰化路3號(hào)20棟1單元501室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種石墨烯納米微片薄膜的制備工藝，石墨烯納米微片薄膜的制備工藝，利用分子自組裝技術(shù)，將石墨烯納米微片在水及常溫有機(jī)溶劑中分散性得到提高，二維微片得以舒展而不折疊，進(jìn)而提高了石墨烯納米微片二維排列的有序度，本工藝方法能耗低、綠色環(huán)保、工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低，易于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)，本發(fā)明工藝制備的石墨烯膜具有良好的導(dǎo)熱特性，導(dǎo)熱系數(shù)介于500-1300W/mK之間，在電子器件散熱領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景，且厚度可以小至500納米。