帶有MOSFET和低正向電壓的等效二極管增強型JFET的半導體器件及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201110306022.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102437187B | 公開(公告)日 | 2015-07-01 |
申請公布號 | CN102437187B | 申請公布日 | 2015-07-01 |
分類號 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L27/07(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H02J7/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 雷燮光;王薇 | 申請(專利權)人 | 重慶萬國半導體科技有限公司 |
代理機構 | 上海申新律師事務所 | 代理人 | 萬國半導體股份有限公司;萬國半導體(開曼)股份有限公司 |
地址 | 美國加利福尼亞州桑尼維爾奧克米德大道475號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 提出了一種帶有集成的MOSFET和等效增強型JFET的半導體芯片。MOSFET-JFET芯片包括類型-1導電類型的公共半導體襯底區(qū)(公共半導體襯底區(qū))。MOSFET器件和等效增強型JFET(等效二極管增強型JFET)器件位于公共半導體襯底區(qū)上方。等效二極管增強型JFET器件具有公共半導體襯底區(qū),作為其等效二極管增強型JFET漏極。至少兩個類型-2導電類型的等效二極管增強型JFET柵極區(qū)位于等效二極管增強型JFET漏極上方,并且在水平方向上相互分離,帶有等效二極管增強型JFET柵極間距。至少一個類型-1導電類型的等效二極管增強型JFET源極位于公共半導體襯底區(qū)上方,以及等效二極管增強型JFET柵極之間。頂部等效二極管增強型JFET電極位于等效二極管增強型JFET柵極區(qū)和等效二極管增強型JFET源極區(qū)上方,并與它們相接觸。如果配置得合適,等效二極管增強型JFET會同時具有大幅低于PN結二極管的正向電壓Vf,以及可以與PN結二極管相比擬的反向漏電流。 |
