超導(dǎo)帶材緩沖層雙面鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201920067663.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN209508401U 公開(kāi)（公告）日 2019-10-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN209508401U 申請(qǐng)公布日 2019-10-18
分類號(hào) C23C14/56（2006.01）I; C23C14/34（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 魯玉明; 豆文芝; 蔡傳兵; 汪洋 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海上創(chuàng)超導(dǎo)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海浦東良風(fēng)專利代理有限責(zé)任公司 代理人 上海上創(chuàng)超導(dǎo)科技有限公司
地址 201400 上海市奉賢區(qū)望園路2066弄4號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種超導(dǎo)帶材緩沖層雙面鍍膜裝置。主要解決二次鍍膜二次繞帶存在的生產(chǎn)效率低下以及會(huì)對(duì)金屬基帶及膜層表面產(chǎn)生摩擦留下劃痕的技術(shù)問(wèn)題。本實(shí)用新型裝置包括水平間隔設(shè)置的放卷盤和收卷盤，在放卷盤的一側(cè)設(shè)置導(dǎo)向輪a和導(dǎo)向輪b，在放卷盤的左側(cè)設(shè)有導(dǎo)向輪c，該導(dǎo)向輪c與放卷盤下方的導(dǎo)向輪b在同一水平線上，在導(dǎo)向輪c的上方設(shè)有導(dǎo)向輪d，在導(dǎo)向輪d的水平方向設(shè)有導(dǎo)向輪e，導(dǎo)向輪e下方同一軸線上設(shè)有導(dǎo)向輪f，導(dǎo)向輪f與收卷盤外側(cè)的導(dǎo)向輪g在同一水平線上，基帶從放卷盤輸出經(jīng)過(guò)上述各個(gè)導(dǎo)向輪進(jìn)入收卷盤，在導(dǎo)向輪c和導(dǎo)向輪d上的基帶左側(cè)設(shè)有正面鍍膜裝置，在導(dǎo)向輪e和導(dǎo)向輪f上的基帶左側(cè)設(shè)有反面鍍膜裝置。