多層縱向OTP存儲器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201711115765.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109817622A | 公開(公告)日 | 2019-05-28 |
申請公布號 | CN109817622A | 申請公布日 | 2019-05-28 |
分類號 | H01L27/115(2017.01)I; H01L27/095(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 彭澤忠; K·J·韓 | 申請(專利權(quán))人 | 成都皮兆永存科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都惠迪專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 成都皮兆永存科技有限公司 |
地址 | 610041 四川省成都市高新區(qū)府城大道西段399號5棟1單元11層3號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 多層縱向OTP存儲器,涉及存儲器技術(shù)。本發(fā)明含有:至少3層導(dǎo)電板,各層導(dǎo)電板彼此絕緣,各層導(dǎo)電板皆設(shè)置有電路接口,用于與外部電路連接;按M×N行列排列的導(dǎo)電柱,M和N皆為大于2的整數(shù);每一導(dǎo)電柱皆與各層導(dǎo)電板相交,在導(dǎo)電板與導(dǎo)電柱的相交處,導(dǎo)電板與導(dǎo)電柱之間設(shè)置有存儲單元;所述存儲單元由摻雜類型相異的兩個半導(dǎo)體層以及設(shè)置于兩個半導(dǎo)體層之間的絕緣電介質(zhì)層構(gòu)成;或者,所述存儲單元由符合在該交叉點(diǎn)處產(chǎn)生肖特基接觸所需的兩個肖特基材料層以及設(shè)置于兩個肖特基材料層之間的絕緣電介質(zhì)層構(gòu)成。本發(fā)明具有存儲密度高,成本低,可靠性高的特點(diǎn),能夠在惡劣的環(huán)境條件下相當(dāng)長期地存儲數(shù)據(jù)。 |
