半導(dǎo)體存儲(chǔ)器制備方法及半導(dǎo)體存儲(chǔ)器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910592710.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN110491785A 公開(kāi)(公告)日 2019-11-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN110491785A 申請(qǐng)公布日 2019-11-22
分類(lèi)號(hào) H01L21/304(2006.01); H01L21/78(2006.01); H01L21/56(2006.01) 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 彭澤忠 申請(qǐng)(專利權(quán))人 成都皮兆永存科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都惠迪專利事務(wù)所(普通合伙) 代理人 成都皮兆永存科技有限公司
地址 610000 四川省成都市高新區(qū)府城大道西段399號(hào)5棟1單元11層3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器制備方法及半導(dǎo)體存儲(chǔ)器,涉及半導(dǎo)體及生產(chǎn)制備工藝。本發(fā)明的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器制備方法包括下述步驟:a、采用半導(dǎo)體集成電路制造工藝,在晶圓上制作基本存儲(chǔ)模塊陣列,基本存儲(chǔ)模塊具有IO電路接口;b、對(duì)晶圓劃片,得到存儲(chǔ)芯片;c、將分離得到的存儲(chǔ)芯片進(jìn)行封裝;所述步驟a中,正交方向相鄰基本存儲(chǔ)模塊的IO電路接口通過(guò)互聯(lián)線連接;所述步驟b為,按照預(yù)定的存儲(chǔ)芯片容量,確定存儲(chǔ)芯片內(nèi)所包含的基本存儲(chǔ)模塊的數(shù)量及存儲(chǔ)芯片邊緣線的位置,然后沿存儲(chǔ)芯片邊緣線劃片,同時(shí)切斷跨越邊緣線的互聯(lián)線,將存儲(chǔ)芯片整體從晶圓分離。采用本發(fā)明的技術(shù),能以一套掩模生產(chǎn)不同容量的存儲(chǔ)器,極大的降低了工藝成本。