一種多蒸發(fā)源鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721166681.4 申請日 -
公開（公告）號 CN207243983U 公開（公告）日 2018-04-17
申請公布號 CN207243983U 申請公布日 2018-04-17
分類號 C23C14/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 龍汝磊;戴秀海;薛聰穎;趙小花 申請（專利權(quán)）人 東莞匯馳真空制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 代理人 光馳科技（上海）有限公司;東莞匯馳真空制造有限公司
地址 200444 上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種多蒸發(fā)源鍍膜裝置，其特征在于：在所述鍍膜傘架下方設(shè)置有至少兩個蒸發(fā)源，在所述蒸發(fā)源的上方分別設(shè)置有對應(yīng)的膜厚補(bǔ)正板，所述膜厚補(bǔ)正板連接有驅(qū)動裝置，所述膜厚補(bǔ)正板可在所述驅(qū)動裝置的驅(qū)動下升起或下降，所述膜厚補(bǔ)正板升起到位后分別位于所述蒸發(fā)源和所述鍍膜傘架之間，所述膜厚補(bǔ)正板下降到位后分別收攏于所述真空鍍膜腔室。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：在取放鍍膜傘架時，不需要將膜厚補(bǔ)正板拆除，就能取放鍍膜傘架，增加了操作便利性；結(jié)構(gòu)簡單合理，適于推廣。