鍍膜方法及其鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210353668.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102899632B 公開（公告）日 2015-05-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN102899632B 申請(qǐng)公布日 2015-05-20
分類號(hào) C23C14/58(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐健;范賓;三浦俊彥;渡邊優(yōu);黃志飛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 東莞匯馳真空制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海新天專利代理有限公司 代理人 光馳科技（上海）有限公司;東莞匯馳真空制造有限公司
地址 200444 上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 關(guān)于在離子輔助方式的鍍膜方法中，通過(guò)離子輔助難于提高形成的薄膜的致密化效果。在鍍膜腔室１０中設(shè)置固定基板的基板支架２０，使鍍膜材料在基板上沉積，在基板上形成鍍膜材料的薄膜；進(jìn)一步,使用具有濃度梯度的離子照射基板支架２０的整個(gè)區(qū)域，離子照射薄膜,對(duì)薄膜進(jìn)行致密化。