應(yīng)用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520358823.1 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN204720414U 公開（公告）日 2015-10-21
申請公布號(hào) CN204720414U 申請公布日 2015-10-21
分類號(hào) H01J37/20(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 戴秀海;余海春;龍汝磊 申請（專利權(quán)）人 東莞匯馳真空制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 代理人 光馳科技（上海）有限公司;東莞匯馳真空制造有限公司
地址 200444 上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及微細(xì)加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是應(yīng)用于離子束刻蝕系統(tǒng)的基片承載裝置，其特征在于：所述裝置包括旋轉(zhuǎn)軸和至少兩個(gè)載物臺(tái)，所述載物臺(tái)沿所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向間隔設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述載物臺(tái)可繞所述旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述載物臺(tái)上開設(shè)有離子束窗口。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：提高了離子束刻蝕系統(tǒng)單次開機(jī)所能刻蝕的基片總數(shù)量，降低了批量作業(yè)時(shí)離子束刻蝕系統(tǒng)的開停機(jī)次數(shù)，提高了離子束刻蝕系統(tǒng)利用率，減少了工時(shí)，滿足刻蝕工作需要；同時(shí)也減少了因反復(fù)開停機(jī)對配套真空系統(tǒng)的不利影響，延長了真空系統(tǒng)的工作壽命，降低了生產(chǎn)成本。