熱處理均勻冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520642928.X 申請日 -
公開（公告）號 CN204999934U 公開（公告）日 2016-01-27
申請公布號 CN204999934U 申請公布日 2016-01-27
分類號 C21D1/00(2006.01)I 分類 鐵的冶金;
發(fā)明人 孫伏宇;朱陽陽;張璐寧 申請（專利權(quán)）人 天津立鑫晟新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津盛理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 天津市立鑫晟精細(xì)鑄造有限公司
地址 301601 天津市靜?？h良王莊鄉(xiāng)良二村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型是熱處理均勻冷卻裝置，由支撐架、轉(zhuǎn)盤和電機(jī)組成，所述支撐架由落地正三角形框架、該框架各角端部對稱設(shè)置的滾輪和支撐滾輪定軸的軸座構(gòu)成，其中一滾輪定軸設(shè)有從動(dòng)帶輪，該從動(dòng)帶輪與電機(jī)軸設(shè)置的主動(dòng)帶輪及傳動(dòng)帶構(gòu)成減速傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)盤底面設(shè)有與轉(zhuǎn)盤同心的承壓圈，承壓圈與落地正三角形框架各角端部的滾輪滾動(dòng)接合。本均勻冷卻裝置的轉(zhuǎn)盤在電機(jī)及其減速傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)下做低速、勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)盤表面擺放的工件相對于冷源可以得到相同的冷卻速度和冷卻溫度而有利于熱處理效果。本均勻冷卻裝置的支撐架由落地正三角形框架和滾輪構(gòu)成，使轉(zhuǎn)盤具有較低的高度，便于工件擺放、撤下操作。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、實(shí)用的突出優(yōu)點(diǎn)。