金屬膜厚測(cè)量方法、膜厚測(cè)量裝置和化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210206383.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114589617A 公開（公告）日 2022-06-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN114589617A 申請(qǐng)公布日 2022-06-07
分類號(hào) B24B37/10;B24B37/013;B24B37/34;B24B49/10;B24B49/04 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 王成鑫;王同慶;田芳鑫;侯映紅;路新春 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 華海清科股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100084 北京市海淀區(qū)清華園1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種金屬膜厚測(cè)量方法、膜厚測(cè)量裝置和化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，方法包括：基于幅值法或相位法測(cè)量晶圓表面金屬薄膜的膜厚時(shí)，計(jì)算幅值法或相位法對(duì)應(yīng)的極值點(diǎn)；根據(jù)所述極值點(diǎn)、測(cè)量量程和/或測(cè)量靈敏度來(lái)調(diào)節(jié)激勵(lì)頻率，其中，所述測(cè)量量程為測(cè)量膜厚范圍，所述測(cè)量靈敏度為分辨率，所述激勵(lì)頻率為用于膜厚測(cè)量裝置的激勵(lì)信號(hào)的頻率。本發(fā)明利用極值點(diǎn)，可以得到幅值法和相位法中最優(yōu)的測(cè)量量程和測(cè)量靈敏度。