一種分布式布拉格反射鏡及其制作方法和設(shè)計(jì)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010640500.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111884046B 公開（公告）日 2021-11-09
申請公布號 CN111884046B 申請公布日 2021-11-09
分類號 H01S5/183（2006.01）I;H01S5/187（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 曾磊;王肇中 申請（專利權(quán)）人 武漢光谷量子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 孟歡
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新大道999號C1-901室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及一種分布式布拉格反射鏡及其制作方法和設(shè)計(jì)方法，所述分布式布拉格反射鏡的制作方法包括步驟：通過非選擇性干法刻蝕和選擇性濕法腐蝕相結(jié)合的方式，在反射鏡層內(nèi)形成N組高折射率對比度的兩層薄膜，其中，折射率對比度大于2。相對于現(xiàn)有的低折射率對比度分布式布拉格反射鏡采用十組甚至更多組薄膜組合實(shí)現(xiàn)高反射率的技術(shù)，本申請?zhí)峁┑姆植际讲祭穹瓷溏R的制作方法，采用少量組數(shù)的薄膜即可實(shí)現(xiàn)高反射率，使得制造成本較低、外延工藝控制難度小。