一種可控晶面取向的薄膜材料及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111055113.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113753847B | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請公布號 | CN113753847B | 申請公布日 | 2022-07-01 |
分類號 | B81C1/00(2006.01)I;B81B1/00(2006.01)I;B23K26/362(2014.01)I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
發(fā)明人 | 張良靜;王萌;薛金星;周滄濤 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳技術(shù)大學(xué) |
代理機構(gòu) | 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 518118廣東省深圳市坪山區(qū)石井街道蘭田路3002號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種可控晶面取向的薄膜材料及其制備方法,包括:將飛秒激光聚集在襯底上,在襯底表面加工出三維結(jié)構(gòu)陣列;將飛秒激光聚集在三維結(jié)構(gòu)陣列上,在襯底表面加工出三維超潤濕模板陣列;將水溶性晶體顆粒滴加到三維超潤濕模板陣列上,并對襯底進(jìn)行加熱處理,得到可控晶面取向的薄膜材料;其中,三維結(jié)構(gòu)陣列包括若干三維結(jié)構(gòu),若干三維結(jié)構(gòu)的尺寸和形狀由水溶性晶體顆粒的尺寸和形狀確定。本發(fā)明通過三維超潤濕模板陣列的超濕潤性吸附水溶性晶體顆粒,并利用加工區(qū)域與未加工區(qū)域的表面能差異,對水溶性晶體顆粒的擴散進(jìn)行限制,得到晶粒取向一致,尺寸大小均一的薄膜材料,薄膜生長速度快,制備方法簡單,制備過程不受材料和襯底約束。 |
