超結器件及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710500207.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109148557B | 公開(公告)日 | 2021-06-11 |
申請公布號 | CN109148557B | 申請公布日 | 2021-06-11 |
分類號 | H01L29/06;H01L21/337;H01L29/808 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 肖勝安;曾大杰 | 申請(專利權)人 | 深圳尚陽通科技股份有限公司 |
代理機構 | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人 | 郭四華 |
地址 | 518057 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)中區(qū)科豐路2號特發(fā)信息港B棟601-602單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種超結器件,設置有環(huán)繞在電荷流動區(qū)周側的保護環(huán)氧化膜,過渡區(qū)中接觸孔的高寬比大于等于電荷流動區(qū)中接觸孔的高寬比,采用鎢塞工藝填充同時實現(xiàn)不同高寬比的接觸孔的可靠填充,P型阱的寬度小于P型柱的寬度,在P型阱和N型區(qū)域之間形成緩變結二極管。本發(fā)明還公開了一種超結器件的制造方法。本發(fā)明能在過渡區(qū)中接觸孔采用較高的高寬比時進行可靠填充,能減少光刻層次,還有利于對接觸孔按照器件需要進行布局,同時保證器件的抗雪崩擊穿能力不受過渡區(qū)的接觸孔工藝的影響,能減少所述P型阱對溝道區(qū)域位置處的N型區(qū)域的寬度的影響,使器件的導通電阻減少;能改善器件的輸出電容的非線性,改善器件應用中的EMI問題。 |
