超結(jié)器件及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710500822.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109148558B | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請公布號 | CN109148558B | 申請公布日 | 2021-08-10 |
分類號 | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 肖勝安;曾大杰 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳尚陽通科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 郭四華 |
地址 | 518057 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)中區(qū)科豐路2號特發(fā)信息港B棟601-602單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種超結(jié)器件,設(shè)置有環(huán)繞在電荷流動區(qū)周側(cè)的保護環(huán)氧化膜,使JFET區(qū)域和源區(qū)都能實現(xiàn)全面注入,過渡區(qū)中的第二接觸孔的高寬比大于等于電荷流動區(qū)中的第一接觸孔的高寬比,采用鎢塞工藝填充同時實現(xiàn)對具有不同高寬比的第一和二接觸孔的可靠填充,P型阱的注入?yún)^(qū)的寬度小于P型柱的寬度,能使溝道區(qū)域位置處的N型區(qū)域的寬度增加。本發(fā)明還公開了一種超結(jié)器件的制造方法。本發(fā)明能在過渡區(qū)中接觸孔采用較高的高寬比時進行可靠填充,能減少光刻層次,還有利于對接觸孔按照器件需要進行布局,同時保證器件的抗雪崩擊穿能力不受過渡區(qū)的接觸孔工藝的影響,能增加溝道區(qū)域的N型區(qū)域的有效寬度,降低器件的比導(dǎo)通電阻。 |
