光線收集透鏡、曝光光學(xué)系統(tǒng)、曝光頭及曝光裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610269363.4 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN105676598A 公開（公告）日 2016-06-15
申請公布號(hào) CN105676598A 申請公布日 2016-06-15
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 周禮書;霍永峰 申請（專利權(quán)）人 成都?xì)W恒光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 四川力久律師事務(wù)所 代理人 成都?xì)W恒光電科技有限公司
地址 610000 四川省成都市高新區(qū)紫荊東路9號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及精密加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光線收集透鏡、曝光光學(xué)系統(tǒng)、曝光頭及曝光裝置，所述光線收集透鏡，包括用于容納光源的容納腔，所述光源包括若干陣列布置的LED芯片，所述容納腔的壁面為入射面，光源發(fā)出的光線由光線收集透鏡收集并進(jìn)行角度和光束口徑的控制，使盡量多的光線能夠被后繼其他透鏡接收并且有效通過。本申請的光線收集透鏡，光源發(fā)出的光線盡可能多的進(jìn)入光線收集透鏡，首先是保證了對光源發(fā)出光線的利用率；同時(shí)，進(jìn)而提高了透鏡對光源發(fā)出光線的控制能力，降低照射在透鏡外部的光線對曝光設(shè)備的不利影響；再一方面，還能夠?qū)Ω鱾€(gè)LED芯片發(fā)出的光線進(jìn)行協(xié)調(diào)的控制，提高輸出光線的均勻度。