一種PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011617501.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112626485A 公開（公告）日 2021-04-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN112626485A 申請(qǐng)公布日 2021-04-09
分類號(hào) C23C14/56 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邵海平;劉莉云;曹英朝 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣東諦思納為新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 蔣學(xué)超
地址 523846 廣東省東莞市長安鎮(zhèn)沙頭社區(qū)靖海西路99號(hào)B棟二樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法，包括依次設(shè)置的裝載腔、第一過渡腔、鍍膜腔組、第二過渡腔、卸載腔和輸送組件，裝載腔的入口、裝載腔與第一過渡腔之間、第一過渡腔與鍍膜腔組之間、鍍膜腔組與第二過渡腔之間，第二過渡腔與卸載腔之間以及卸載腔的出口均設(shè)有真空隔離閥，各腔室均設(shè)有對(duì)應(yīng)的真空泵組，裝載腔和卸載腔均設(shè)有泄氣閥。本發(fā)明的有益效果在于：提供了一種具備多級(jí)真空腔結(jié)構(gòu)的鍍膜設(shè)備，可以大大縮短抽氣/放氣的時(shí)間，產(chǎn)品由設(shè)備的一端持續(xù)進(jìn)入，從設(shè)備的另一端持續(xù)輸出，實(shí)現(xiàn)了不間斷生產(chǎn)，產(chǎn)能高，產(chǎn)品工藝一致性好，且產(chǎn)品的裝卸均采用機(jī)械手，節(jié)約了人力成本，有效提高了工廠的經(jīng)濟(jì)效益。