一種低溫真空鍍膜裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010099721.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111254405B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111254405B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-12 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/50（2006.01）I;C23C14/26（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 胡均松;吳劍斌 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江西艾芬達(dá)暖通科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞市中正知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 杜寅 |
| 地址 | 334000 江西省上饒市上饒經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)旭日片區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種低溫真空鍍膜裝置，屬于鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括鍍膜室以及設(shè)置在所述鍍膜室內(nèi)底部的蒸發(fā)室，所述蒸發(fā)室內(nèi)底部設(shè)置有電熱板，所述鍍膜室側(cè)方與真空泵相連，所述鍍膜室內(nèi)部設(shè)置有盛放組件，所述盛放組件包括環(huán)板以及自所述環(huán)板內(nèi)側(cè)貫穿設(shè)置并與所述環(huán)板固定連接的安裝板，所述安裝板中部開(kāi)設(shè)有用于安裝靶材的卡槽。本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)第二驅(qū)動(dòng)組件帶動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)組件上下移動(dòng)，第一驅(qū)動(dòng)組件帶動(dòng)安裝板以及環(huán)板在鍍膜室內(nèi)部上下移動(dòng)，同時(shí)在齒片與齒條的嚙合效果下驅(qū)使安裝板以及靶材轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使得靶材的上下表面均能夠與蒸發(fā)的涂料進(jìn)行充分接觸，提高了靶材的鍍膜效率，具有鍍膜效果好、質(zhì)量高的優(yōu)點(diǎn)。 |
