一種二極管芯片清洗工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811442303.3 申請日 -
公開（公告）號 CN109616402A 公開（公告）日 2019-04-12
申請公布號 CN109616402A 申請公布日 2019-04-12
分類號 H01L21/02;C11D7/06;C11D7/04;C11D7/60 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳強德 申請（專利權(quán)）人 嘉興實新企業(yè)服務(wù)有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 314001 浙江省嘉興市南湖區(qū)耀城廣場11、12幢11-301室-137
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種二極管芯片的清洗工藝。涉及清洗工藝中所用清洗液配方的改進。能進一步減少芯片側(cè)表面金屬離子，從而避免芯片在工作中會出現(xiàn)“爬電”現(xiàn)象。依次包括混酸洗、雙磷洗和氨洗，氨洗時的清洗液包括氨水、水和雙氧水，它們的重量比是氨水0.5份∶水1.5份∶雙氧水0.5份。與以往的配方相比，本發(fā)明在氨洗液中加入了雙氧水，在充分混合的情況下通過下酸管道下到酸洗盤上，酸液沒過上釘頭(相當于芯片上端面的夾具部件)使得反應(yīng)充分，進而能使芯片側(cè)表面的金屬雜質(zhì)去除得更加徹底，材料在高溫下使用更加穩(wěn)定，降低由于表面漏電的偏大而導致材料電性的不穩(wěn)定。