一種二極管腐蝕清洗工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811441786.5 申請日 -
公開（公告）號 CN109585271A 公開（公告）日 2019-04-05
申請公布號 CN109585271A 申請公布日 2019-04-05
分類號 H01L21/02（2006.01）I; H01L21/306（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳強(qiáng)德 申請（專利權(quán)）人 嘉興實(shí)新企業(yè)服務(wù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 314001 浙江省嘉興市南湖區(qū)耀城廣場11、12幢11-301室-137
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種二極管腐蝕清洗工藝，所述清洗工藝依次為腐蝕、鈍化、鈍化雜質(zhì)清洗、熱水沖洗浸泡,其中腐蝕為通過化學(xué)腐蝕方式去除芯片側(cè)面因切割而產(chǎn)生的損傷層,鈍化為通過化學(xué)反應(yīng)方式鈍化芯片側(cè)面，使芯片側(cè)面形成鈍化保護(hù)層，鈍化表面雜質(zhì)清洗為通過化學(xué)反應(yīng)方式去有機(jī)雜質(zhì)，金屬離子，顆粒沾污。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：添加熱水沖水浸泡工藝，使得吸附在芯片鈍化層表面的有機(jī)雜質(zhì)、金屬離子以及顆粒沾污物質(zhì)因熱量因素加速溶解，提升清洗效果，從而降低因芯片表面沾污而導(dǎo)致的產(chǎn)品漏電流，提升產(chǎn)品的良率及可靠性。