一種真空電漿成型腔體設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110268555.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113005421A 公開（公告）日 2021-06-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN113005421A 申請(qǐng)公布日 2021-06-22
分類號(hào) C23C14/54;C23C14/56;C23C16/44;C23C16/50;C23C16/52 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 裴孝懷;鐘智敏;劉偉;陳波 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 科大智聯(lián)（上海）技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 婁岳
地址 201619 上海市松江區(qū)桐涇鎮(zhèn)長(zhǎng)興東路1586號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種真空電漿成型腔體設(shè)備，包括內(nèi)部中空的腔體、與腔體連通的進(jìn)氣管道、用于在進(jìn)氣管道內(nèi)的空氣進(jìn)入腔體前依次進(jìn)行過濾的濾板，以及設(shè)置在腔體內(nèi)的放電裝置和工件；所述濾板至少有三個(gè)且每個(gè)濾板上均設(shè)置有濾孔；在沿空氣流動(dòng)的方向上，濾板的濾孔數(shù)量逐漸增多，且濾孔的孔徑逐漸減小。