一種功率器件封裝方法及封裝框架
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111604408.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114334670A | 公開(公告)日 | 2022-04-12 |
申請公布號 | CN114334670A | 申請公布日 | 2022-04-12 |
分類號 | H01L21/48(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I;H01L23/495(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 顧嵐雁;林河北;梅小杰;解維虎;覃尚育 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市金譽半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳峰誠志合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李明香 |
地址 | 518000廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街道浪口社區(qū)華昌路315號1層(華昌路工業(yè)區(qū)14棟1-3層,17棟1-3層) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了功率器件封裝方法,提供用于封裝功率MOS管的封裝框架,封裝框架包括金屬墊片、第一金屬層、第二金屬層、絕緣導(dǎo)熱層和間隔排列的三個金屬電極,絕緣導(dǎo)熱層環(huán)設(shè)于金屬墊片的四周,第一金屬層和所述第二金屬層對稱設(shè)置于絕緣導(dǎo)熱層兩側(cè),第一金屬層與第二金屬電極連接,第二金屬層與第一金屬電極連接,金屬墊片與第三金屬電極連接,將功率MOS管的漏極與金屬墊片焊接,在封裝框架表面進行金屬蒸發(fā)工藝,在蒸發(fā)金屬表面進行光刻,去除部分蒸發(fā)金屬形成位于封裝框架上的柵極連接線和源極連接線,封裝框架表面進行樹脂包裹、塑封,以形成功率MOS管的直插式封裝,有效避免了單個芯片反復(fù)打線過程,提高了功率MOS管的封裝效率。 |
