光學薄膜的制備方法、卷繞鍍膜機和微納米結(jié)構(gòu)色晶體

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201980090229.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113544221A 公開（公告）日 2021-10-22
申請公布號 CN113544221A 申請公布日 2021-10-22
分類號 C09D5/29;C09D11/00;C09D11/02;C09C1/00 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 郭凌杰;馬道遠 申請（專利權(quán)）人 寧波融光納米科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 李慶波
地址 315000 浙江省寧波市奉化區(qū)經(jīng)濟開發(fā)區(qū)濱海新區(qū)濱海大道388號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種光學薄膜的制備方法、卷繞鍍膜機和微納米結(jié)構(gòu)色晶體，該光學薄膜的制備方法，制備方法基于卷繞鍍膜機，制備方法包括：提供一基帶；將基帶繞于卷繞鍍膜機的放卷輥以及收卷輥上；對卷繞鍍膜機的鍍膜真空室進行抽真空至鍍膜真空室的真空度達到預設閾值；放卷輥與收卷輥帶動基帶通過卷繞鍍膜機的多個濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室做卷繞運動；其中，多個濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室包括：第一濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室以及多個第二濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室；在基帶通過第一濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室時，脫膜劑蒸鍍于基帶上形成第一犧牲層；在基帶通過多個第二濺射、蒸發(fā)或原子層沉積室時，光學介質(zhì)材料沉積于犧牲層上形成第一光學薄膜；去除犧牲層以得到光學薄膜。通過上述方式，本申請能夠提高工作效率，并降低生產(chǎn)成本。