一種穩(wěn)定同位素標(biāo)記的展青霉素及其合成方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110234835.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113004300A | 公開(公告)日 | 2021-06-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113004300A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-22 |
分類號(hào) | C07D493/04 | 分類 | 有機(jī)化學(xué)〔2〕; |
發(fā)明人 | 鄧曉軍;趙超敏;曲栗;曹晨;郭會(huì);李仁軍;朱倩;徐敏;胡旭平;陳武煉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上??坡蓪@硎聞?wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 金碎平 |
地址 | 200135 上海市浦東新區(qū)民生路1208號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種穩(wěn)定同位素標(biāo)記的展青霉素及其合成方法,以穩(wěn)定同位素13C標(biāo)記的丙三醇?13C3作為起始原料,經(jīng)過端位羥基保護(hù)反應(yīng)、中間位羥基氧化成酮羰基反應(yīng)、端位羥基脫保護(hù)反應(yīng)、端位羥基和乙酸酐的酯化反應(yīng)和葉立德反應(yīng),然后關(guān)環(huán)得到4?羥甲基?5H?呋喃?2?酮?13C5并進(jìn)行羥基保護(hù),在二異丙基胺基鋰的作用下和芐氧基乙醛?13C2反應(yīng),得到的產(chǎn)物經(jīng)過羥基和特戊酰氯的酯化反應(yīng)、羥基脫保護(hù)反應(yīng)、羥基氧化成醛基反應(yīng)、三氯化硼脫芐基反應(yīng)、羥醛縮合反應(yīng)和脫?;磻?yīng)得到展青霉素?13C7。本發(fā)明首次通過全合成法得到穩(wěn)定同位素13C標(biāo)記的展青霉素?13C7,產(chǎn)率高,化學(xué)純度與穩(wěn)定同位素豐度均達(dá)到98%以上。 |
