駐極體膜片凈化裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120170306.7 申請日 -
公開（公告）號 CN214705972U 公開（公告）日 2021-11-12
申請公布號 CN214705972U 申請公布日 2021-11-12
分類號 H01L41/257（2013.01）I;H04R19/01（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 莊展提 申請（專利權(quán)）人 永昶集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳博匯創(chuàng)新專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 楊亞林;李倩竹
地址 516200 廣東省惠州市惠陽區(qū)沙田鎮(zhèn)長安中三路廠房A、B棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種駐極體膜片凈化裝置，包括X射線機(jī)、X射線管、加熱器和用于放置待凈化的駐極體膜片的置物裝置，X射線機(jī)具有防輻射外殼，用于發(fā)出X射線的X射線管設(shè)置于X射線機(jī)中，置物裝置位于X射線機(jī)的下方，待凈化的駐極體膜片放置在置物裝置的上表面，加熱器設(shè)置在置物裝置的下方，與放置待凈化的駐極體膜片的位置相對，用于加熱待凈化的駐極體膜片，X射線機(jī)與置物裝置相對的底面上設(shè)置有凈化窗口，X射線管發(fā)出的X射線通過凈化窗口，照射在放置在置物裝置上的待凈化的駐極體膜片上，提高了對駐極體膜片的凈化效果，且安全無輻射，噪聲小，成本低，凈化速度快。