一種陽極層離子源增強PVD沉積室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201420688972.X 申請日 -
公開（公告）號 CN204265831U 公開（公告）日 2015-04-15
申請公布號 CN204265831U 申請公布日 2015-04-15
分類號 C23C14/32(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 付德春;田燦鑫 申請（專利權(quán)）人 湖北江海行工貿(mào)集團(tuán)有限公司
代理機構(gòu) 宜昌市三峽專利事務(wù)所 代理人 成鋼
地址 443501 湖北省宜昌市長陽創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園發(fā)展大道88號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種陽極層離子源增強PVD沉積室，在沉積室內(nèi)壁上排布多個弧源，外側(cè)加熱管設(shè)在沉積室內(nèi)下底板上，中心加熱管設(shè)在上頂板與中心轉(zhuǎn)軸相接觸處；矩形陽極層離子源安裝在沉積室爐門上；沉積室內(nèi)設(shè)上底盤與下底盤，中心轉(zhuǎn)軸穿過上底盤與下底盤與沉積室下底板相接，工件架固定在上底盤與下底盤之間。本實用新型的優(yōu)點在于，利用陽極層離子源能大幅度提高氣體的離化率；設(shè)擋板保護(hù)陽極層離子源，延長陽極層離子源的使用壽命；合理分布加熱管，使整個沉積室內(nèi)加熱均勻，為薄膜的沉積提供很好的室內(nèi)環(huán)境；弧源分左右四排間隔排布，工件架工位設(shè)計最優(yōu)化，既提高了沉積室內(nèi)的空間利用率，使一次滿載鍍膜的刀具數(shù)增加，也提高了鍍膜效率和沉積薄膜的質(zhì)量。特別具有膜層附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。卓越的附著力可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落(PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力)。