一種電子元器件生產(chǎn)用滾動涂膠裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010742763.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111842056B 公開（公告）日 2021-12-10
申請公布號 CN111842056B 申請公布日 2021-12-10
分類號 B05C13/02;B05C5/02;B05C11/02 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 韓是方韋 申請（專利權(quán)）人 中科同幟半導(dǎo)體（江蘇）有限公司
代理機構(gòu) 東營雙橋?qū)＠碛邢挢?zé)任公司 代理人 李夫壽
地址 225400 江蘇省泰州市泰興市泰興高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)路18號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種電子元器件生產(chǎn)用滾動涂膠裝置，包括底座，所述底座底部的左右兩側(cè)對稱固定連接有支撐腿，兩個支撐腿之間的底部設(shè)置有承載板，承載板頂部的正中固定安裝有液壓推桿，底座頂部的正中開設(shè)有升降槽，升降槽左右兩側(cè)內(nèi)壁的頂部對稱固定連接有限位塊，底座頂部的正中設(shè)置有支撐軸，支撐軸左右兩側(cè)的中部對稱開設(shè)有滑槽，支撐軸的頂部設(shè)置有載物臺。本發(fā)明所述的一種電子元器件生產(chǎn)用滾動涂膠裝置，在電子元器件旋轉(zhuǎn)過程中，為電子元器件的頂部、中部、底部均勻的噴上膠水，解決了點膠不均勻，甚至出現(xiàn)空點和過量點情況的問題，同時對三層膠水進行刮勻，使膠水的涂覆均勻，避免三層膠水之間出現(xiàn)斷層。