一種核電站電解槽制燒堿調(diào)峰系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920382612.X 申請日 -
公開（公告）號 CN210122593U 公開（公告）日 2020-03-03
申請公布號 CN210122593U 申請公布日 2020-03-03
分類號 C25B1/46;C25B9/04;H02J3/00 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 楊豫森;崔華;陳輝 申請（專利權(quán)）人 北京赫普電力科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市中聯(lián)創(chuàng)和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京赫普電力科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十三街18號院12號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種核電站電解槽制燒堿調(diào)峰系統(tǒng)，包括調(diào)峰控制平臺和核電站，所述核電站設(shè)有汽輪機(jī)，所述調(diào)峰控制平臺與核電站相連，還包括送變電及供電模塊、NaCl電解槽、氫氣洗滌罐、氯氣洗滌罐、氯化鈉溶液配制模塊，所述送變電及供電模塊分別與調(diào)峰控制平臺、NaCl電解槽相連，所述NaCl電解槽的一端分別與汽輪機(jī)、氯化鈉溶液配制模塊相連，所述NaCl電解槽的另一端分別與氫氣洗滌罐、氯氣洗滌罐相連。本實用新型將核電站深度調(diào)峰與生產(chǎn)燒堿的電解槽系統(tǒng)進(jìn)行結(jié)合，不僅可利用富余調(diào)峰電量通過電解槽生產(chǎn)燒堿及附加值高的氫氣、氯氣等；而且可利用電解槽負(fù)荷變動特性，來響應(yīng)電網(wǎng)對核電站的深度調(diào)峰負(fù)荷變動需求。