一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710667753.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107513693A | 公開(公告)日 | 2017-12-26 |
申請公布號 | CN107513693A | 申請公布日 | 2017-12-26 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 趙斌 | 申請(專利權)人 | 深圳市烯谷能源控股有限公司 |
代理機構 | 深圳市德錦知識產權代理有限公司 | 代理人 | 丁敬偉 |
地址 | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)蛇口街道望海路1166號招商局廣場1#樓19層D、E單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開提供一種模塊化制造多用途卷繞式真空鍍膜機,它包括至少兩個真空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元,相鄰的兩個真空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元之間通過真空聯(lián)結閥連接,待鍍膜的卷料由所述真空聯(lián)結閥穿過進入下一個空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元;所述真空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元包括有放卷室、鍍膜室、熱處理室及收卷室,四者均設有若干可用于張緊、傳送待鍍膜卷料、改變的待鍍膜的卷料纏繞方向的卷軸,鍍膜室設有鍍膜榖,待鍍膜的卷料在上一個真空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元中實現(xiàn)一面鍍膜后因所述卷軸改變其纏繞方向在下一個真空卷繞鍍膜系統(tǒng)單元實現(xiàn)另一面鍍膜。 |
