一種碳化硅用拋光液的制備和使用方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201010591103.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102127371B 公開（公告）日 2015-06-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN102127371B 申請(qǐng)公布日 2015-06-10
分類號(hào) H01L21/304(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張賀;陳小龍;黃青松;王錫銘 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州天科合達(dá)藍(lán)光半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 215163 江蘇省蘇州市高新區(qū)科技城昆侖山路189號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于高質(zhì)量拋光碳化硅晶片表面的拋光液、拋光液的制備方法以及使用該拋光液的方法。該拋光液由去離子水、二氧化硅拋光液、輔助氧化劑、PH調(diào)節(jié)劑配制而成。利用此方法配制的拋光液無氣味，分散均勻，狀態(tài)穩(wěn)定，無沉淀，可適當(dāng)循環(huán)使用，加工晶片去除速率快，加工出的碳化硅晶片較光亮，50倍顯微鏡下觀測(cè)無明顯劃痕且平整、均與，表面粗糙度經(jīng)原子力顯微鏡檢測(cè)可穩(wěn)定達(dá)到納米級(jí)。該拋光液的使用循環(huán)次數(shù)，可以通過改變加入輔助氧化劑和PH調(diào)節(jié)劑的量或者二者不同的比例來調(diào)節(jié)。