一種衛(wèi)星導(dǎo)航授時(shí)方法、系統(tǒng)及相關(guān)組件
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110789612.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113467221A | 公開（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113467221A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號(hào) | G04R20/02（2013.01）I | 分類 | 測(cè)時(shí)學(xué); |
| 發(fā)明人 | 楊夢(mèng)雪;李瑞寒;潘振杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 湖南國科微電子股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉翠香 |
| 地址 | 410131湖南省長(zhǎng)沙市長(zhǎng)沙經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)泉塘街道東十路南段9號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種衛(wèi)星導(dǎo)航授時(shí)方法、系統(tǒng)及相關(guān)組件，該方法包括：獲取不同時(shí)刻、不同區(qū)域?qū)?yīng)的電離層特征點(diǎn)的天頂方向電離層延時(shí)，根據(jù)所有天頂方向電離層延時(shí)建立延時(shí)關(guān)系；根據(jù)授時(shí)終端的當(dāng)前位置和當(dāng)前時(shí)刻，通過所述延時(shí)關(guān)系，確定所述授時(shí)終端對(duì)應(yīng)電離層特征點(diǎn)的當(dāng)前天頂方向電離層延時(shí)；根據(jù)所述授時(shí)終端和對(duì)應(yīng)的授時(shí)衛(wèi)星的相對(duì)位置，確定當(dāng)前天頂方向電離層延時(shí)對(duì)應(yīng)的當(dāng)前電離層延時(shí)并進(jìn)行授時(shí)。本申請(qǐng)建立了具體時(shí)刻和具體區(qū)域?qū)?yīng)的電離層特征點(diǎn)的天頂方向電離層延時(shí)，針對(duì)具體的授時(shí)終端查詢相應(yīng)的天頂方向電離層延時(shí)，能夠更為準(zhǔn)確地進(jìn)行誤差計(jì)算和衛(wèi)星授時(shí)，修正效率和結(jié)果準(zhǔn)確度明顯高于現(xiàn)有技術(shù)。 |
