一種石墨盤及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110578410.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113277883A 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN113277883A 申請公布日 2021-08-20
分類號 C04B41/88（2006.01）I;C04B41/87（2006.01）I 分類 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕;
發(fā)明人 劉恒昌;王碩;高熙隆;劉雪珍;黃珊珊;黃輝廉;周偉秀 申請（專利權(quán)）人 中山德華芯片技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 伍傳松
地址 528437廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)火炬路22號之二第3-4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種石墨盤及其制備方法和應(yīng)用，涉及低壓MOCVD（石墨盤）外延生長領(lǐng)域，尤其涉及一種減少預(yù)反應(yīng)的新方法。本發(fā)明所述石墨盤的表層有一層改性薄膜，所述改性薄膜熱輻射系數(shù)低于0.2W/（kg·K）。本發(fā)明通過對石墨盤進行改性，降低了預(yù)反應(yīng)區(qū)所在區(qū)域的氣體溫度，從而達到減緩預(yù)反應(yīng)發(fā)生的效果。