一種磷擴(kuò)散硅舟
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121483065.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN215496651U | 公開(公告)日 | 2022-01-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215496651U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-11 |
分類號(hào) | H01L21/673(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 徐愛民;顧標(biāo)琴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇揚(yáng)杰潤(rùn)奧半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京源點(diǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 潘云峰 |
地址 | 225000江蘇省揚(yáng)州市廣陵產(chǎn)業(yè)園創(chuàng)業(yè)路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體制作設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種磷擴(kuò)散硅舟。其包括舟本體,沿舟本體軸向間隔開設(shè)有若干組卡槽,卡槽包括間隔設(shè)置的槽一和槽二,槽一和槽二用于放置相背而立的硅片,槽一和槽二間距設(shè)置為d,兩相鄰卡槽間距設(shè)置為D,D大于d。本實(shí)用新型用于解決磷擴(kuò)散效率低的問題。由于在硅片在進(jìn)行磷擴(kuò)散時(shí),硅片的陽極面不需要接觸擴(kuò)散源,則將每組卡槽中的槽一和槽二的間距設(shè)置為小于兩相鄰卡槽的間距,而槽一和槽二中相背放置了兩陽極面相對(duì)的硅片,減小了相背放置兩硅片之間的間距,減少整個(gè)硅舟的長(zhǎng)度,提高硅舟的承載能力,同樣的擴(kuò)散系統(tǒng)中可以放入更多的硅舟用于擴(kuò)散,提高了磷擴(kuò)散效率。 |
