一種鍺基底8-12um紅外波段窗口片及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111505244.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114200552A 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN114200552A 申請公布日 2022-03-18
分類號 G02B1/115（2015.01）I;C23C14/26（2006.01）I;C23C14/30（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I;C23C14/22（2006.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 崔丁方;錢海東;陳琳;楊康;李俊儀;王博文;姜俊;王爽;劉勇 申請（專利權）人 云南馳宏國際鍺業(yè)有限公司
代理機構 北京名華博信知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 薛飛
地址 655011云南省曲靖市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種鍺基底8?12um紅外波段窗口片及其制備方法，屬于紅外光學領域。所述窗口片以單晶鍺為基底，基底的正反兩面均鍍有相同的紅外增透膜系結構；正反面的紅外增透膜膜系結構均為：基底/0.281Ge/0.475ZnSe/0.4641Ge/0.644ZnSe/0.578YbF3/0.126ZnS/空氣。根據(jù)光的干涉相消和干涉相長的原理，使用多層膜結構可以使光的干涉相長達到最大，進而最大化的提高鍍膜鏡片的透過率。在透過率方面，由于Ge、YbF3、ZnS等鍍膜材料在該透光波段內(nèi)均存在吸收，同時各膜層之間的張壓應力也對波段內(nèi)的光存在吸收，本發(fā)明將有吸收的膜層厚度降至最低同時在第二層和第四層鍍膜采用透光性能更加完善的ZnSe材料，以此提高透過率，并在鍍膜過程中采用離子源助鍍及離子源鍍前、鍍后轟擊的方式來降低膜層應力以減少吸收提高透過率的同時增強膜層強度。