一種高霧度高透光PMMA光擴(kuò)散母粒及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011637942.2 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112759873A 公開(公告)日 2021-05-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN112759873A 申請(qǐng)公布日 2021-05-07
分類號(hào) C08K7/18(2006.01)I;C08K13/04(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08L25/06(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;C08J3/22(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 王勇 申請(qǐng)(專利權(quán))人 廣東基爍新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 劉克寬
地址 523617廣東省東莞市樟木頭鎮(zhèn)錦盛路2號(hào)1棟101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于光擴(kuò)散材料技術(shù)領(lǐng)域,提供一種高霧度高透光PMMA光擴(kuò)散母粒及其制備方法和應(yīng)用,該高霧度高透光PMMA光擴(kuò)散母粒,其由以下重量份的原料組成:60?85份PMMA樹脂、8?20份硅微球、8?20份聚苯乙烯微球、0.1?0.3份增白劑、0.3?0.6份分散劑和0.2?0.5份抗氧劑,其中,所述硅微球?yàn)榧{米粒徑的二氧化硅微球;所述聚苯乙烯微球的粒徑為微米級(jí);該高霧度高透光PMMA光擴(kuò)散母粒能解決現(xiàn)有PMMA材料無法在維持高透光率的情況下,獲得高霧度、高光擴(kuò)散性能的技術(shù)問題,并能避免材料的二次加工,降低材料二次加工的物理性能和光學(xué)性能的損失,降低生產(chǎn)成本。??